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发布时间:2020-10-18 11:02:54
等离子体化学气相沉积的化学反应
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等离子体内的化学反应
由于辉光放电过程中对反应气体的激励主要是电子碰撞,因此等离子体内的基元反应多种多样的,而且等离子体与固体表面的相互作用也非常复杂,这些都给PECVD技术制膜过程的机理研究增加了难度。迄今为止,许多重要的反应体系都是通过实验使工艺参数较优化,从而获得具有理想特性的薄膜。对基于PECVD技术的硅基薄膜的沉积而言,如果能够深刻揭示其沉积机理,便可以在保证材料优良物性的前提下,大幅度提高硅基薄膜材料的沉积速率。
ICP刻蚀机的原理
感应耦合等离子体刻蚀法(Inductively Coupled Pla***a Etch,简称ICPE)是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下,ICP 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电,产生高密度的等离子体,在下电极的RF 射频作用下,这些等离子体对基片表面进行轰击,基片图形区域的半导体材料的化学键被打断,与刻蚀气体生成挥发性物质,以气体形式脱离基片,从真空管路被抽走。
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ICP刻蚀机装片介绍
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等离子体系统效应的过程转换成材料的蚀刻工艺。在待刻蚀硅片的两边,分别放置一片与硅片同样大小的玻璃夹板,叠放整齐,用夹具夹紧,确保待刻蚀的硅片中间没有大的缝隙。冷热探针法将夹具平稳放入反应室的支架上,关好反应室的盖子。等离子刻蚀检验原理为冷热探针法,具体方法如下:热探针和N型半导体接触时,传导电子将流向温度较低的区域,使得热探针处电子缺少,因而其电势相对于同一材料上的室温触点而言将是正的。同样道理,P型半导体热探针触点相对于室温触点而言将是负的。此电势差可以用简单的微伏表测量。热探针的结构可以是将小的***圈绕在一个探针的周围,也可以用小型的电烙铁。
ICP刻蚀机的测量与控制
沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产、销售ICP刻蚀机,以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
由于等离子刻蚀工艺中的过程变量,如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗,等等,不易测量,因此业界常用的测量方法有:
虚拟测量(Virtual Metrology)
等离子刻蚀过程控制示意图
光谱测量
等离子阻抗监控
终端探测
远程耦合传感
控制方法
run-to-run 控制(R2R)
模型预测控制(MPC)
人工***网络控制
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