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所在地区: | 辽宁 沈阳 |
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公司地址: | 沈阳市沈河区凌云街35号 |
发布时间:2020-10-16 22:17:50
PLD 主要选件
离子辅助沉积 (IBAD)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统,该系统将PLD 在沉积复杂材料方面的优势与IBAD 能力结合在一起。
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脉冲激光沉积简介
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——***脉冲激光沉积供应商,我们为您带来以下信息。
【设备主要用途】
PLD450A型脉冲激光沉积设备采用PLD脉冲激光沉积技术,用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结,也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
【设备优点】
设备全程采用一键式操作抽气,关机,程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀,插板阀人工开启。
【设备主要组成】
设备由沉积腔室(单室球形或圆筒形)、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成
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